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                  MueTec为掩膜的生产与检测提供高精度和高重复性系统■,包括但不限于COG和PSM掩模。测量包括掩模上CD一致性的分布,同时提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小至300nm的特征尺寸,3sigma重复性通常在①纳米范围内。

                  对于掩膜来料测量和检测,MueTec提供长距离工作物镜,用于通过保护膜的测量。


                  PRODUCTS
                  • DaVinci 270UV
                    密封式CD测量
                    DaVinci 270UV

                    典型应用

                    CD测量


                    主要特点

                    自动化动装卸

                    可见光,紫外光,反射光,投射光

                    灵活配置



                  • MT270UV
                    开放式半自动→测量检测系统(OC)
                    MT270UV

                    典型应用

                    CD测量

                    Overlay测量

                    膜厚测量

                    缺陷检测

                    缺陷review


                    主要特点

                    手动装卸

                    可见光,紫外光

                    支持75-200mm晶圆

                    支持KLARF/TSK文件输出

                    SECS/GEM