内容标题34

  • <tr id='coNude'><strong id='coNude'></strong><small id='coNude'></small><button id='coNude'></button><li id='coNude'><noscript id='coNude'><big id='coNude'></big><dt id='coNude'></dt></noscript></li></tr><ol id='coNude'><option id='coNude'><table id='coNude'><blockquote id='coNude'><tbody id='coNude'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='coNude'></u><kbd id='coNude'><kbd id='coNude'></kbd></kbd>

    <code id='coNude'><strong id='coNude'></strong></code>

    <fieldset id='coNude'></fieldset>
          <span id='coNude'></span>

              <ins id='coNude'></ins>
                <acronym id='coNude'><em id='coNude'></em><td id='coNude'><div id='coNude'></div></td></acronym><address id='coNude'><big id='coNude'><big id='coNude'></big><legend id='coNude'></legend></big></address>

                <i id='coNude'><div id='coNude'><ins id='coNude'></ins></div></i>
                <i id='coNude'></i>
              • <dl id='coNude'></dl>
                1. <blockquote id='coNude'><q id='coNude'><noscript id='coNude'></noscript><dt id='coNude'></dt></q></blockquote><noframes id='coNude'><i id='coNude'></i>

                  Overlay是将工艺的上一层与下一层对准的过程。Overlay误差定义为这两层之间的偏移。Overlay测量是在两个不同的结构上测量,这两个结构是由不同制造进程中生成,大多数情况№下由不同的材料组成。


                  衡量Overlay测量,一种常见的特征结构是“Box-in-Box”。为了精确测量,软件必须识别和学习内Box和外Box的中心位置以及边界,以定义理想的测量参数,学习的结▲果将显示在窗口中。如下左图所示,除了Box-in-Box结构外,MueTec系统还可以测量Frame-in-Frame,L-Bars,Circle-in-Circle,Cross-in-Cross或任何其他自定义的Overlay结构。



                  显著特点

                  √ 可配备红外照明的系统能够支持顶部表面、底部表面以及内部的测量

                  √ 通过特定的算法,Overlay测量可应用于工艺阶段如STI(沟槽隔离)、CMP(化学机械抛光)之后的低对比度的情况

                  √ 选择特殊的均质物镜,确保成像效果,从而获得更好的测量结果

                  √ 为了将Overlay测量性能优化到最高水平,参数配置(例如物镜的照明均匀性和光学质量之类的参数可进行自动校正,TIS可通自动校正功能进行补偿。校正参数可被记录在每一类晶圆的参考任务中,并自动补偿到后々续的测量中。


                  MueTec为解决这些关键问题付出了数十年的努力。最终获得了一种用户友好的Overlay测量工具,提供最高的精度和产能、最佳的可重复性和自动化以及最低的TIS。

                  PRODUCTS
                  • DaVinci 200/300
                    封闭式CD/Overlay测量系统
                    DaVinci 200/300

                    典型应用

                    CD

                    Overlay


                    主要特点

                    机械手晶圆搬运

                    可见光,紫外光

                    支持200/300mm晶圆

                    支持KLARF/TSK文件输出

                    SECS/GEM

                  • MT3000
                    开放式自动测量检测系统(OC)
                    MT3000

                    典型应用

                    CD测量

                    Overlay测量

                    膜厚测量

                    缺陷检测

                    缺陷review


                    主要特点

                    机械手晶圆搬运

                    可见光,紫外光

                    支持75-200mm晶圆

                    支持KLARF/TSK文件输出

                    SECS/GEM

                  • MT270UV
                    开放式半自动测量检测系统(OC)
                    MT270UV

                    典型应用

                    CD测量

                    Overlay测量

                    膜厚测量

                    缺陷检测

                    缺陷review


                    主要特点

                    手动装卸

                    可见光,紫外光

                    支持75-200mm晶圆

                    支持KLARF/TSK文件输出

                    SECS/GEM